詳細介紹
品牌 | Eksma | 價格區間 | 面議 |
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組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫療衛生,環保,化工,電子,綜合 |
Eksma 非偏振寬帶立方體分光鏡
來自400-700 nm或700-1100 nm寬帶區域的非偏振立方分光鏡。
Eksma 非偏振寬帶立方體分光鏡
產品介紹
Ø由BK7制成
Ø專為低功耗應用而設計
Ø典型損傷閾值:> 0.1 J / cm2,1064 nm時為10 Hz
Ø寬帶抗反射鍍膜:R <1%@ 450-700 nm或R <1%@ 750-1100 nm
非偏振立方體分光鏡由兩個直角棱鏡組成,這些直角棱鏡與內(受保護)面上的部分反射面粘合在一起。分光鏡立方體的四個側面都鍍有寬帶抗反射鍍膜。鍍膜設計用于450-700 nm或750-1100 nm范圍。
立方體提供50:50的分配比例,并提供四種不同的大小。可以提供未安裝或已安裝的立方體 ,已安裝的立方體帶有M2P或M2P后綴的代碼。
產品型號
工作波長范圍-450-700 nm
型號 | 材料 | 尺寸, MM | 波長 |
351-0107 | BK7 | 10 x 10 mm | 450-700 nm |
351-0107-M2Ps | BK7 | 10 x 10 mm | 450-700 nm |
351-0157 | BK7 | 15 x 15 mm | 450-700 nm |
351-0157-M2P | BK7 | 15 x 15 mm | 450-700 nm |
351-0207 | BK7 | 20 x 20 mm | 450-700 nm |
351-0207-M2P | BK7 | 20 x 20 mm | 450-700 nm |
351-0257 | BK7 | 25 x 25 mm | 450-700 nm |
351-0257-M2P | BK7 | 25 x 25 mm | 450-700 nm |
工作波長范圍-750-1100 nm
型號 | 材料 | 尺寸, MM | 波長 |
351-0108 | BK7 | 10 x 10 mm | 750-1100 nm |
351-0108-M2Ps | BK7 | 10 x 10 mm | 750-1100 nm |
351-0158 | BK7 | 15 x 15 mm | 750-1100 nm |
351-0158-M2P | BK7 | 15 x 15 mm | 750-1100 nm |
351-0208 | BK7 | 20 x 20 mm | 750-1100 nm |
351-0208-M2P | BK7 | 20 x 20 mm | 750-1100 nm |
351-0258 | BK7 | 25 x 25 mm | 750-1100 nm |
351-0258-M2P | BK7 | 25 x 25 mm | 750-1100 nm |
非標立方分光鏡
型號 | 材料 | 尺寸, MM | 波長 |
PRI0001124 | BK7 | 25.4 x 25.4 mm | 450-650 nm |
材料 | BK7 |
尺寸公差 | ±0.25 mm |
表面質量 | 40-20表面光潔度(MIL-PRF-13830B) |
通光孔徑 | 80% of the face size |
表面平整度 | λ/4 @ 633 nm |
光束偏差 | <5 arcmin |
吸收率 | <10% |
反射/透射比 | 50/50 ± 5% |
透射 | Tp |
EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
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