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透射式光柵光路設計簡單，對于使用固定式光柵的應用，透射光柵優(yōu)勢明顯，比如光譜儀。入射光束在光柵背面以固定角度發(fā)生色散。透射式光柵對一些類型的光柵準直誤差不敏感。為了獲得高衍射效率，透射式光柵刻線密度不高。衍射角會隨刻線密度的增加而增大，基底材料的折射率限制了長波的透射率，從而導致性能降低。光柵的色散特性使其適用于使用小型探測器陣列的緊湊系統(tǒng)。這種光柵對于偏振也不敏感。

透射光柵分光片通常用于He-Ne激光束的分光和可見范圍內(nèi)多條激光的分離。透射的光束被衍射為多階。由在拋光玻璃基底上鍍的與之折射率相匹配的環(huán)氧樹脂復制層所構成，以此獲得更高的總衍射效率。這些分束器專門設計用于He-Ne激光器分光。

平面刻線衍射光柵（12.7x12.7x6mm） 制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇，通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進行調(diào)整，可能需要花費幾天進行設置并在實際刻劃之前進行測試。刻劃機必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回，并按預定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。

平面刻線衍射光柵（25x25x6mm） 制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇，通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進行調(diào)整，可能需要花費幾天進行設置并在實際刻劃之前進行測試。刻劃機必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回，并按預定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。

平面刻線衍射光柵（50x50x9.5mm） 制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇，通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進行調(diào)整，可能需要花費幾天進行設置并在實際刻劃之前進行測試。刻劃機必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回，并按預定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。

立方分光棱鏡（寬帶增透400~700nm）與分光片相比，分光棱鏡的反射及透射光光程是相等的。在透光時，分光棱鏡沒有光線偏移造成的影響，所以不會存在光束平移，鬼像以及干涉的困擾。用于分光及成像。45°角入射時無需長時間校準。

立方分光棱鏡（寬帶增透700~1100nm）與分光片相比，分光棱鏡的反射及透射光光程是相等的。在透光時，分光棱鏡沒有光線偏移造成的影響，所以不會存在光束平移，鬼像以及干涉的困擾。用于分光及成像。45°角入射時無需長時間校準。

立方分光棱鏡（寬帶增透1100~1600nm）與分光片相比，分光棱鏡的反射及透射光光程是相等的。在透光時，分光棱鏡沒有光線偏移造成的影響，所以不會存在光束平移，鬼像以及干涉的困擾。用于分光及成像。45°角入射時無需長時間校準。